具有P柱中N点区域的超结MOSFET,用于软恢复

2024-06-12 05:52

本文主要是介绍具有P柱中N点区域的超结MOSFET,用于软恢复,希望对大家解决编程问题提供一定的参考价值,需要的开发者们随着小编来一起学习吧!

来源:Superjunction MOSFET with an N-dot region in the P-pillar for Soft Reverse Recovery(ISPSD 24年)

摘要

在本文中,提出了一种新型的具有P柱中N点区域的超结MOSFET,并进行了实验研究。利用硼和砷扩散速率的差异,通过在P柱注入后植入等剂量的砷和硼,自然形成了N点区域。因此,N柱和P柱之间的电荷平衡条件保持不变,这允许所提出的超结MOSFET的击穿电压不受影响。更重要的是,N点区域增加了位于N点区域下方的P柱的接地电阻,这降低了反向恢复期间非平衡空穴的提取速度。因此,所提出的MOSFET获得了柔软的反向恢复性能。实验结果表明,与传统的超结MOSFET相比,所提出的MOSFET的软度因子可以提高2.5倍以上,且无副作用。

关键词—超结MOSFET;反向恢复;二极管;柔软度
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文章的研究内容

文章的研究内容是关于一种新型的超结MOSFET(Superjunction MOSFET,简称SJ-MOSFET),这种器件在P柱(P-pillar)中引入了一个N点区域(N-dot region),目的是实现更软的(soft)反向恢复特性。以下是对研究内容的具体概述:

  1. 新型结构的提出:文章提出了一种具有P柱中N点区域的超结MOSFET,这种结构旨在改善器件的反向恢复性能。

  2. 利用扩散速率差异:通过利用硼(boron)和砷(arsenic)的扩散速率差异,在P柱注入后植入等剂量的砷和硼,自然形成了N点区域。

  3. 电荷平衡条件:由于N点区域的形成,N柱和P柱之间的电荷平衡条件保持不变,这有助于维持超结MOSFET的击穿电压不受N点区域影响。

  4. 反向恢复性能改善:N点区域增加了P柱的接地电阻,从而降低了反向恢复期间非平衡空穴的提取速度,实现了更软的反向恢复特性。

  5. 实验研究:通过实验验证了所提出的超结MOSFET与传统超结MOSFET相比,在没有副作用的情况下,软度因子(softness factor)提高了2.5倍以上。

  6. 关键词:文章的关键词包括超结MOSFET、反向恢复、二极管和柔软度,这些关键词概括了文章的主要内容和研究重点。

  7. 实验结果:文章通过实验结果展示了新型SJ-MOSFET在反向恢复过程中的性能提升,包括降低的电压过冲(voltage overshoot)和抑制的电压振荡。

  8. 影响因素研究:研究了N点剂量和N点区域到P柱底部的距离对软度因子和击穿电压的影响。

  9. 结论:文章得出结论,所提出的具有N点区域的超结MOSFET在不引入副作用的情况下,显著改善了反向恢复性能。

这项研究对于提高功率转换系统的效率和可靠性具有重要意义,尤其是在需要快速开关应用的场合。

文章的研究方法

  1. 理论设计:提出了一种新型的超结MOSFET(SJ-MOSFET)结构,该结构在P柱中引入了N点区域,以期望改善反向恢复性能。

  2. 制造工艺:利用硼和砷的扩散速率差异,通过在P柱注入后植入等剂量的砷和硼,自然形成了N点区域。这种方法不需要复杂的制造工艺。

  3. 实验制备:在实验室中制备了所提出的SJ-MOSFET,并与传统的SJ-MOSFET进行了对比实验。

  4. 电场分布模拟:通过模拟,比较了所提出的SJ-MOSFET与传统SJ-MOSFET在不同条件下的电场分布情况。

  5. 反向恢复特性测试:测试了两种SJ-MOSFET在反向恢复期间的电流、电压波形,以及反向恢复电荷(Qrr)和软度因子等参数。

  6. 性能比较:将所提出的SJ-MOSFET与传统SJ-MOSFET的性能进行了比较,特别是反向恢复期间的电压过冲和振荡情况。

  7. 参数影响分析:研究了N点区域的剂量和位置对SJ-MOSFET反向恢复性能的影响,以及这些参数如何影响击穿电压。

  8. 数据分析:对实验数据进行了详细分析,以验证所提出的SJ-MOSFET结构在改善反向恢复性能方面的有效性。

  9. 结果验证:通过实验结果验证了理论设计和模拟的准确性,确保了研究结果的可靠性。

  10. 结论提炼:基于实验和分析结果,得出了所提出的SJ-MOSFET结构能够显著提高反向恢复软度因子,且不引入副作用的结论。

整体来看,这项研究采用了理论设计、模拟分析、实验验证和参数优化等方法,系统地研究了新型SJ-MOSFET结构对反向恢复性能的影响。

文章的创新点

  1. N点区域设计:在P柱中引入N点区域(N-dot region),这是通过在P柱注入后植入等剂量的砷(As)和硼(B)来自然形成的,利用了硼和砷不同的扩散速率。

  2. 电荷平衡保持:尽管引入了N点区域,但N柱和P柱之间的电荷平衡条件保持不变,这有助于维持超结MOSFET的击穿电压不受新结构的影响。

  3. 反向恢复性能改善:N点区域增加了P柱的接地电阻,这降低了反向恢复期间非平衡空穴的提取速度,从而实现了更软的反向恢复特性。

  4. 无需复杂工艺:与传统的需要复杂制造过程的SJ-MOSFET相比,所提出的结构不需要额外的复杂工艺步骤,易于实现。

  5. 软度因子显著提升:实验结果表明,与常规超结MOSFET相比,所提出的SJ-MOSFET在没有副作用的情况下,软度因子可以提高2.5倍以上。

  6. 电压过冲和振荡降低:所提出的SJ-MOSFET在反向恢复期间显示出较低的电压过冲和抑制的电压振荡,这有助于提高系统的稳定性和可靠性。

  7. N点剂量和位置的影响研究:文章不仅提出了新结构,还研究了N点区域的剂量和位置对器件性能的具体影响,为进一步优化提供了依据。

  8. 实验验证:通过实验验证了所提出的SJ-MOSFET结构的有效性,确保了理论设计和模拟结果的准确性。

这些创新点展示了在超结MOSFET设计中通过引入N点区域来优化反向恢复性能的新方法,有助于推动功率电子器件技术的发展。

文章的结论

  1. 新型SJ-MOSFET结构:提出了一种具有P柱中N点区域的新型超结MOSFET,并进行了实验研究。

  2. 电荷平衡未受影响:N点区域的形成并未影响N柱和P柱之间的电荷平衡条件,保持了超结MOSFET的击穿电压不变。

  3. 反向恢复性能改善:由于N点区域增加了P柱的接地电阻,减缓了非平衡空穴的提取速度,所提出的SJ-MOSFET展现出了更软的反向恢复特性。

  4. 软度因子显著提升:与传统的超结MOSFET相比,所提出的SJ-MOSFET的软度因子提高了2.5倍以上,且没有引入副作用。

  5. 电压过冲降低:在反向恢复测试中,所提出的SJ-MOSFET显示出较低的电压过冲和抑制的电压振荡,提高了系统的稳定性。

  6. N点剂量和位置的影响:研究了N点区域的剂量和位置对软度因子和击穿电压的影响,发现软度因子随N点剂量的增加而增加,但超过一定剂量后趋于饱和。

  7. 无需复杂制造工艺:所提出的SJ-MOSFET结构不需要复杂的制造工艺,易于实现,有利于工业应用。

  8. 实验验证:通过实验验证了所提出的SJ-MOSFET结构在改善反向恢复性能方面的有效性。

  9. 潜在应用价值:所提出的SJ-MOSFET由于其改善的反向恢复性能,具有在高速开关应用中的潜在应用价值。

文章的结论强调了所提出SJ-MOSFET结构的有效性,并指出了其在功率电子领域的应用潜力。

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