本文主要是介绍EUV光刻机，预计2026年将以30%左右的复合年增长率增长，希望对大家解决编程问题提供一定的参考价值，需要的开发者们随着小编来一起学习吧！
EUV（极紫外）光刻是用于生产先进半导体的关键技术，而先进半导体是各种电子设备的重要组成部分。EUV 光刻机市场是一个小众市场，由 ASML、佳能和尼康等几家主要厂商主导。
近年来，在高性能计算、人工智能和物联网 (IoT) 需求增加的推动下，对 EUV 光刻机的需求显着增加。此外，中国半导体产业的快速增长也促进了EUV光刻机市场的增长。
就全球市场趋势而言，2021年至2026年，EUV光刻机市场预计将以30%左右的复合年增长率（CAGR）增长。这种增长是由对先进半导体不断增长的需求以及 5G、自动驾驶汽车和增强现实等新技术的发展推动的。
在中国市场，政府一直在积极推动半导体产业的发展，包括EUV光刻技术的发展。2020年，中国半导体产业实现了一个重要的里程碑，由上海微电子（SMEE）研制的第一台国产EUV光刻机下线。这一成就代表着中国在半导体行业实现更加自给自足的努力中向前迈出了重要一步。
除中微电子外，中微电子、北方华创等中国企业也在积极研发EUV光刻机。这些公司有望在未来几年在全球 EUV 光刻机市场发挥越来越重要的作用。
总体而言，在对先进半导体的需求不断增加和新技术发展的推动下，EUV 光刻机市场有望在未来几年实现强劲增长。虽然市场目前由少数几家主要参与者主导，但预计中国和其他地方新参与者的出现将为该行业带来更激烈的竞争和创新。
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