euv专题
EUV光刻，没有那么重要？
关注、星标公众号，精彩内容每日送达来源：内容由半导体行业观察（ID：icbank）编译自semiwiki，谢谢。 在 2023 年 SPIE 高级光刻和图案化会议上，ASML 展示了其该领域 EUV 光刻系统的最新动态 。EUV 晶圆曝光输出如下表所示： 根据这些信息，我们可以尝试提取和评估每季度的 EUV 晶圆产量。首先，由于有些季度没有报告产出，我们将使用四次多项式拟合进行插值。使用四次
7纳米duv和euv_要超车台积电，三星采用 EUV 技术 7 纳米制程完成验证
在晶圆代工市场中，台积电与三星的竞争始终是大家所关心的戏码。其中，三星虽然有高通这样的VIP 客户，但在 7 纳米制程节点上，高通预计会转投回台积电的情况下，三星要想受到更多的客户的青睐，只能从工艺技术上着手了。 这也是三星为什么跳过非 EUV 技术的 7 纳米制程，直接上 7 纳米 LPP EUV 制程技术的原因。如今，三星终于公布了他的 7 纳米 LPP 制程已经完成了新斯科技(Synops
7纳米duv和euv_EUV光刻技术竞争激烈，三星7纳米EUV制程已完成新思科技物理认证，台积电紧追其后...
在晶圆代工市场，台积电与三星的竞争始终是大家关心的戏码。三星虽然有高通等VIP客户，但在7纳米制程节点，高通预计会转投台积电，三星要想受更多客户的青睐，只能从制程技术着手了。这也是三星为什么跳过非EUV技术的7纳米制程，直接上7纳米LPPEUV制程技术的原因。如今，三星终于公布了7纳米LPP制程已完成新思科技(Synopsys)物理认证，意味着7纳米EUV制程将可全球量产了。 目前全球前几大晶
加工制造EUV极紫外光刻机的钼/硅反射镜的方法与技术
EUV光刻机使用的反射镜材质是具有极高精度的钼/硅反射镜。这是因为几乎所有材料对13.5nm的EUV都强烈吸收，故EUV光刻机不能采用DUV那样的透镜，只能采用反射式光学系统。又因为EUV波长与晶格参数接近，很容易发生衍射，反射率也很低，最终的光学反射方案是基于布拉格定律，采用多层镀膜的钼-硅的分布式布拉格反射镜。 钼/硅反射镜是一种高精度的反射镜，广泛应用于高功率激光器、光刻机等光学设备中。这种
EUV光刻机，预计2026年将以30%左右的复合年增长率增长
EUV（极紫外）光刻是用于生产先进半导体的关键技术，而先进半导体是各种电子设备的重要组成部分。EUV 光刻机市场是一个小众市场，由 ASML、佳能和尼康等几家主要厂商主导。 近年来，在高性能计算、人工智能和物联网 (IoT) 需求增加的推动下，对 EUV 光刻机的需求显着增加。此外，中国半导体产业的快速增长也促进了EUV光刻机市场的增长。 就全球市场趋势而言，2021年至2026年，EUV光刻机市
台积电7nm EUV工艺已量产 性能较7nm可提升10%
【TechWeb】5月27日消息，据国外媒体报道，在芯片工艺方面，台积电近几年都走在行业前列，在去年率先量产7nm工艺之后，其更先进的7nm EUV工艺也已开始量产。 台积电7nm EUV工艺已量产 性能较7nm可提升10% 外媒是在当地时间周日的报道中，表示台积电的7nm EUV工艺已经量产的，其还提到台积电近日在台湾新竹的一场技术论坛上，台积电的CEO魏哲家确认了7nm EUV工艺的更多细
骁龙865现身：三星7nm EUV工艺制造
【TechWeb】目前手机市场上，骁龙855已经成为各大品牌旗舰机标配，作为其继任者的骁龙865自然受到关注。据韩媒Theelec报道，三星将在2019年底前量产高通骁龙865处理器，采用的是7nm制程的EUV。 过去三星晶圆代工与高通的合作关系，一直持续到10纳米制程晶片，2018年台积电率先挺进7纳米制程，高通因此将订单交由台积电生产。这次三星再一次抢回订单，至于为什么选用三星，The El
7纳米duv和euv_同样可以造7纳米芯片，为什么EUV光刻机比DUV光刻机贵一倍？
光刻机作为生产制造半导体芯片的关键设备，其技术和先进程度直接影响着芯片的工艺和性能，比如说目前非常热门的7nm级芯片，台积电和三星基本都采用ASML生产的EUV光刻机来制造，产能也开始趋于稳定，然而，很多人可能认为想要造7nm芯片就只能靠EUV光刻机，其实使用传统的DUV光刻机也是可以制造的。 仅仅从价格上来说，DUV光刻机就比EUV光刻机便宜太多了，像ASML生产的一台EUV光刻机价格可能高
垄断市场的ASML新一代EUV光刻机价格翻两倍，台积电等准备大出血
据外媒报道指光刻机巨头ASML的新一代High-NA EUV设备订价约4亿美元，折合27亿人民币，较上一代的EUV光刻机提价两倍多，上一代EUV光刻机售价大约1.2亿美元，台积电等恐怕要再度大出血了。 目前的光刻机市场几乎已被ASML垄断，在拥有垄断地位的情况下，ASML如何定价就可以随心所欲，正因此ASML可以将EUV光刻机定出天价，台积电等芯片制造企业也只能接受。 台积电、三星等计划在今年
清华发力了，EUV光刻机技术取得重大突破，外媒：没想到如此快
日前媒体纷纷传言清华研发成功EUV光刻机，这个其实夸大了事实，不过却也确实是EUV光刻机的重大突破，将绕开ASML等西方垄断的EUV光刻技术路线，开辟一条全新的道路。 据了解清华研发成功的并非是EUV光刻机，而是可用于EUV光刻机的光源，这被称为SSMB（稳态微聚束加速器光源），据了解清华大学负责该项技术研发的唐传祥教授也明确指出“SSMB光源的潜在应用之一是作为未来EUV光刻机的光源”。 E
传三星向ASML订购15台价值180亿元的EUV光刻机
近日，据韩国先驱报报道，为在晶圆代工领域超越台积电，抢占未来2-3 年由于 5G 商用化带来的日益升温的半导体市场需求，传近日三星电子向 ASML 订购 15 台先进 EUV 光刻机设备，价值 180 亿元人民币！ 光刻机一直被认为是克服半导体制造工艺最小化限制的关键设备，其单价高达 2000 亿韩元。据报道，三星电子最近发出一份意向书（LOI），向 ASML 购买价值 3 万亿韩元的 EU