光刻机专题
泽攸科技无掩模光刻机：引领微纳制造新纪元
在当今科技迅猛发展的时代，微纳制造技术正变得越来越重要。泽攸科技作为这一领域的先行者，推出了其创新的无掩模光刻机，这一设备在微电子制造、微纳加工、MEMS、LED、生物芯片等多个高科技领域展现出了其独特的价值和广泛的应用前景。 技术革新：无需物理掩膜 传统的光刻技术依赖于物理掩膜版来转移电路图形，而泽攸科技的无掩模光刻机打破了这一局限。它采用计算机控制的高精度光束，直接在感光材料上进行扫描曝光
半导体光刻机行业深度报告：复盘ASML，探寻本土光刻产业投资机会
报告来源：西南证券 1、 提要：光刻工艺是晶圆制造最核心环节，光刻产业链协同发展成为光刻机突破关键因子 1.1 光刻定义晶体管尺寸，光刻工艺合计占芯片成本近 30% 2019 年全球半导体市场规模达 4090 亿美元，成为数码产业的基石。第二次工业革命就 是数码产业的革命，据麦肯锡预测，2020 年全球数码产业将占全球企业总产值的 41%，而 半导体则成为数码产业的基石。根据 WSTS 统计
用DUV光刻机制造3纳米芯片!
点击蓝字关注我们 关注、星标公众号，精彩内容每日送达来源：网络素材 华为海思麒麟9000S的面市，预示着中国已经可以使用 DUV 光刻技术实现了 7 纳米级节点的芯片制造，这提出了一个问题：通过多重曝光方法，DUV 光刻技术能走多远？ 据国外科技媒体semiwiki报道，CSTIC 2023的最新发表指出，中国研究小组目前正在考虑将基于 DUV 的多重图案化扩展到 5 纳米，甚至考虑在一层使用
加工制造EUV极紫外光刻机的钼/硅反射镜的方法与技术
EUV光刻机使用的反射镜材质是具有极高精度的钼/硅反射镜。这是因为几乎所有材料对13.5nm的EUV都强烈吸收，故EUV光刻机不能采用DUV那样的透镜，只能采用反射式光学系统。又因为EUV波长与晶格参数接近，很容易发生衍射，反射率也很低，最终的光学反射方案是基于布拉格定律，采用多层镀膜的钼-硅的分布式布拉格反射镜。 钼/硅反射镜是一种高精度的反射镜，广泛应用于高功率激光器、光刻机等光学设备中。这种
泽攸科技完全自主研制的电子束光刻机取得阶段性成果
国产电子束光刻机实现自主可控，是实现我国集成电路产业链自主可控的重要一环。近日，泽攸科技联合松山湖材料实验室开展的全自主电子束光刻机整机的开发与产业化项目取得重大进展，成功研制出电子束光刻系统，实现了电子束光刻机整机的自主可控，标志着国产电子束光刻机研发与产业化迈出关键一步。 电子束光刻是利用聚焦电子束对某些高分子聚合物（电子束光刻胶）进行曝光并通过显影获得图形的过程。而产生聚焦电子束并让聚焦电
EUV光刻机，预计2026年将以30%左右的复合年增长率增长
EUV（极紫外）光刻是用于生产先进半导体的关键技术，而先进半导体是各种电子设备的重要组成部分。EUV 光刻机市场是一个小众市场，由 ASML、佳能和尼康等几家主要厂商主导。 近年来，在高性能计算、人工智能和物联网 (IoT) 需求增加的推动下，对 EUV 光刻机的需求显着增加。此外，中国半导体产业的快速增长也促进了EUV光刻机市场的增长。 就全球市场趋势而言，2021年至2026年，EUV光刻机市
敞开拥抱中国，荷兰光刻机巨头ASML丝毫不受“大火”影响...
公司CEO Peter Wennink称继续看好中国出口。 在德州仪器、海力士等芯片厂商公布财报之际，几个小时前，荷兰光刻机霸主阿斯麦（ASML）公司也公布了2018年第四季度及全年业绩报告，而在当天的声明中，公司CEO彼得·维尼克（Peter Wennink）特别指出，中国对其产品的需求强劲，继续看好对中国的出口。 作为目前全球最先进极紫外（EUV）光刻机的唯一供应商，阿斯麦在美国牵头
7纳米duv和euv_同样可以造7纳米芯片，为什么EUV光刻机比DUV光刻机贵一倍？
光刻机作为生产制造半导体芯片的关键设备，其技术和先进程度直接影响着芯片的工艺和性能，比如说目前非常热门的7nm级芯片，台积电和三星基本都采用ASML生产的EUV光刻机来制造，产能也开始趋于稳定，然而，很多人可能认为想要造7nm芯片就只能靠EUV光刻机，其实使用传统的DUV光刻机也是可以制造的。 仅仅从价格上来说，DUV光刻机就比EUV光刻机便宜太多了，像ASML生产的一台EUV光刻机价格可能高
垄断市场的ASML新一代EUV光刻机价格翻两倍，台积电等准备大出血
据外媒报道指光刻机巨头ASML的新一代High-NA EUV设备订价约4亿美元，折合27亿人民币，较上一代的EUV光刻机提价两倍多，上一代EUV光刻机售价大约1.2亿美元，台积电等恐怕要再度大出血了。 目前的光刻机市场几乎已被ASML垄断，在拥有垄断地位的情况下，ASML如何定价就可以随心所欲，正因此ASML可以将EUV光刻机定出天价，台积电等芯片制造企业也只能接受。 台积电、三星等计划在今年
清华发力了，EUV光刻机技术取得重大突破，外媒：没想到如此快
日前媒体纷纷传言清华研发成功EUV光刻机，这个其实夸大了事实，不过却也确实是EUV光刻机的重大突破，将绕开ASML等西方垄断的EUV光刻技术路线，开辟一条全新的道路。 据了解清华研发成功的并非是EUV光刻机，而是可用于EUV光刻机的光源，这被称为SSMB（稳态微聚束加速器光源），据了解清华大学负责该项技术研发的唐传祥教授也明确指出“SSMB光源的潜在应用之一是作为未来EUV光刻机的光源”。 E
传三星向ASML订购15台价值180亿元的EUV光刻机
近日，据韩国先驱报报道，为在晶圆代工领域超越台积电，抢占未来2-3 年由于 5G 商用化带来的日益升温的半导体市场需求，传近日三星电子向 ASML 订购 15 台先进 EUV 光刻机设备，价值 180 亿元人民币！ 光刻机一直被认为是克服半导体制造工艺最小化限制的关键设备，其单价高达 2000 亿韩元。据报道，三星电子最近发出一份意向书（LOI），向 ASML 购买价值 3 万亿韩元的 EU
杨锐对话光刻机畅销书作者瑞尼：探索领军者ASML的崛起 | 钛媒体 · 前沿直播预告...
▎10月15日20:00-21:00，锁定钛媒体前沿直播间，钛媒体首个国际对话IP节目「Rui Dialogue」即《锐对话》即将精彩呈现。 在芯片领域，有一种叫做“光刻机”的设备，不是央行的“印钞机”，却比印钞机更加珍贵。单台造价高达1.29亿美元，被誉为“皇冠上的明珠”。 为何光刻机那么重要？ 实际上，光刻机主要包含特殊的光和玻璃，类似“投影仪+照相机”，以光为刀，将晶体管和设计好的电路图