本文主要是介绍产品级IPMSM高频注入低速无传感器控制方法,希望对大家解决编程问题提供一定的参考价值,需要的开发者们随着小编来一起学习吧!
前言:姗姗来迟,终于推出了自己的第一篇文章。
大家好,允许自我介绍一下:论坛ID“转子磁场定向”,毕业以来一直在深圳从事电机控制相关工作已十余年。涉及产品包括变频器、伺服、家电控制器、电动工具。做过永磁同步电机PMSM和感应电机ACIM。来到CSDN,希望分享自己的优质内容,和志同道合的朋友共同探讨。
简介:高频注入在国外已研究了很多年,国内的论文也不少,但是国内能够应用到产品的公司寥寥无几。本文采用全新的视角,推出一种已经量产,并且可以在IPM零速输出转矩的控制方法。SPM可以低速使用,无法零速使用。
伺服因为转矩脉动和控制精度要求无法使用该方法。
饱和凸极性
谈到高频注入,大家第一步会联想到凸极性。内埋式IPM具有结构凸极,表贴式SPM具有饱和凸极。首先弄清楚什么是SPM的饱和凸极?
直轴磁路的 ψ − i \psi - i ψ−i 曲线如下图一所示:
对于SPM,不考虑转子磁场, L d = L q L_{d}=L_{q} Ld=Lq 。转子永磁体磁场可以等效为励磁电流 i f i_{f} if。当电流矢量与 d d d 轴正向重合, i f i_{f} if 和 i d + i_{d+} id+ 同向,那么电流矢量的磁场和转子磁场叠加,就会导致直轴磁路出现饱和。当电流矢量与 d d d 轴反向重合, i f i_f if 和 i d − i_{d-} id− 会抵消一部分幅值,那么激励磁场与转子磁场抵消,磁路处于线性段。如定义 L d + L_{d+} Ld+ 为直轴正向电感, L d − L_{d-} Ld− 为直轴负向电感,那么 L d + < L d − L_{d+}<L_{d-} Ld+<Ld− ,这就是SPM的饱和凸极性。饱和凸极性可用于低速控制方法,也可以用于初始位置检测。
图1 直轴磁路磁链-电流曲线
如图二所示:当给定子绕组施加激励,当固定幅值的电流矢量与 d d d 轴夹角逐渐变化时,两个磁场的相互作用决定了 d d d 轴电感是连续变化的。当激励电流与 d d d 轴正交时, L d L_{d} Ld 最大,电感变化曲线与电流矢量和 d d d 轴夹角基本是一个接近正弦的关系。
图2 SPM电感变化曲线
介绍了饱和凸极性,就得思考一个问题。常用的高频注入三大流派:旋转高频注入、脉振、方波高频注入。后两者不分SPM和IPM,旋转高频注入只能用于IPM。三种方法的增益都有 L d L q L d − L q \frac{L_{d}L_{q}}{L_{d}-L_{q}} Ld−LqLdLq ,为什么单单旋转高频注入不能用在SPM呢?
这个问题暂时没有看到公开的解释,谈下自己的理解,不一定对。
脉振和方波高频注入,都是在 d d d 轴上施加电流激励。假设 q q q 轴电流激励和 d d d 轴相同,那么因为 d d d 轴还有转子磁场,和电流激励相互作用,因为正向饱和效应和反向消磁,就会造成 d d d 轴的磁路和 q q q 轴肯定不同,也就是说很大的概率会导致 L d ≠ L q L_{d}\ne L_{q} Ld=Lq ,所以高频注入增益不为0。
对于旋转高频注入,在 α − β \alpha-\beta α−β 静止坐标系注入旋转激励矢量,与 d d d 轴的位置是无关的,二者相对位置随机。那么对于SPM,很有可能在某些时刻电流激励全部施加在 q q q 轴上,造成 q q q 轴磁路和 d d d 轴磁路工作在相同的情况,这样的结果就是很大概率 L d = L q L_{d}=L_{q} Ld=Lq ,高频注入增益为0,提取误差信号失败。
所以旋转高频注入只能在强凸极性的IPM使用,无论磁路如何饱和,都不会出现交直轴电感相等的情况。脉振和方波高频注入,利用饱和凸极性,也可以用在SPM的低速控制和初始位置辨识。
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