美光拟投巨资在日本广岛建DRAM厂，目标2027年底投产

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美光科技（Micron Technology）据日本媒体报道，计划在日本广岛县新建一座DRAM芯片生产工厂，目标最快于2027年底投入运营。这一举措标志着美光在增强其内存芯片生产能力方面的又一重大步伐。

报道称，新工厂的总投资规模预估在6000亿至8000亿日元（约51亿美元）。建设计划于2026年初启动，并将配备极紫外光刻（EUV）设备，这是先进半导体制造的关键技术之一。日本政府已批准了高达1920亿日元（约13亿美元）的补贴，以支持美光在广岛工厂生产下一代芯片。这些资金旨在帮助美光整合ASML的EUV设备，生产对于生成式AI、数据中心和自动驾驶技术至关重要的芯片。

美光原定于2024年启用新工厂的计划因市场状况不佳而有所推迟。自2013年收购日本DRAM巨头尔必达（Elpida）以来，美光在日本已拥有超过4000名工程师和技术人员，此新投资将进一步扩大其在日本的影响力。

展望2025年后，日本半导体产业将迎来一系列新工厂的落成，其中包括美光在广岛的1-gamma（1γ）DRAM生产线。此外，日本的晶圆代工企业PSMC的子公司JSMC与金融集团SBI合作的工厂预计也将于2027年建成并开始生产芯片。同时，初创企业Rapidus规划在北海道于2027年开始生产2纳米芯片，显示了日本在半导体领域的复兴决心。

日本经济产业省正积极推动与私营部门的多方面合作，旨在重振半导体产业。有利的汇率政策也促进了工厂建设和投资，为出口前景增添了亮色。然而，伴随半导体产业扩张，日本面临的半导体人才短缺问题也不容忽视。为此，政府推出了多项优厚的人才培养补贴计划，以缓解人才短缺的潜在瓶颈。总体而言，日本半导体产业正展现出强劲的复苏势头，未来发展前景乐观。

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