高纯铜靶材是指采用纯度在 4N（Cu≥99.99%）以上的金属铜生产的靶材（N 即代表铜的纯度，N 前面的数字越大铜纯度越高）。 高纯铜靶材是一种用于薄膜沉积工艺的材料，具有极高的纯度和特定的物理和化学性质。它通常制备为平板或圆盘形状，以用于物理蒸发、磁控溅射等过程中，将铜材料以原子或分子形式沉积在基底上，以制备薄膜或多层材料。高纯铜靶材的制备和使用需要极端的质量控制，以确保所制备的薄膜具有高度