这两期我们看一下衍射光栅的高阶衍射、衍射效率、反射率。具体到仿真设置，就是Floquet端口的模式分析，S参数与衍射效率和反射率的关系。那么研究这些衍射和表面等离子极化激元SPP有什么关系呢？关系可大了，光栅是一种能够用来激励出SPP模式的结构，所以我们要了解其衍射特性，才能激励出表面波SPP。 使用等离子激元单元模板，开启计算透射率反射率吸收率： 添加银材料，画个因材料的基底，这里d是光

等离子体显示器又称电浆显示器，是继CRT(阴极射线管)、LCD(液晶显示器)后的最新一代显示器，其特点是厚度极薄，分辨率佳。从工作原理上讲，等离子体技术同其它显示方式相比存在明显的差别，在结构和组成方面领先一步。其工作原理类似普通日光灯和电视彩色图像，由各个独立的荧光粉像素发光组合而成，因此图像鲜艳、明亮、干净而清晰。另外，等离子体显示设备最突出的特点是可做到超薄，可轻易做到40英寸以

  知 识星球（星球名： 芯片制造与封测社区，星球号： 63559049）里的学员问： 我看 到一本书上 说刻蚀SiO2需要C，这个C会和SiO2中的O结合。 较弱的 si和f结合从而被刻蚀。 但是另一本书上写SiO2刻蚀是因为离子轰击打断了Si=O键才造成刻蚀，这两个说法哪个正确？ 化学反应的本质？化学反应的本质是旧键的断裂与新键的生成。化学反应消耗了反应物，

书籍：《炬丰科技-半导体工艺》 文章：碳化硅等离子刻蚀方法 编号：JFKJ-21-555 作者：炬丰科技 摘要 本发明提供了一种等离子体蚀刻硅的方法.具有对重叠或底层材料电介质层的选择性的碳化物。该蚀刻气体包括碳气体,貪氧气体知02和任选的载体气体，如氤电介质材料可以包括二氧化硅、氮化硅、氧化硅或各种低k电介质材料，包括有机低k材乳为了实现对这 种介电材料的期望选择性，选择等离子体蚀刻气体化字物

在表面等离子体激元学研究中，金属纳米粒子的光学特性是许多应用的基础，例如化学和生物医学传感、 表面增强光谱、和近场扫描光学显微镜。金或银纳米粒子中的电子与入射光场相互作用时产生局域表面等离子体共振 (LSPR)。这种 LSPR 现象强烈依赖于纳米结构的尺寸、形状和周围介电环境。特别是后者 的依赖性开辟了一条折射率传感的道路，对于一定的折射率变化，LSPR现象将导致较大的光谱偏移，从而可以检测介电环

竞争结束了，等离子电视完败给液晶电视。继松下于2013年10月宣布停产等离子电视之后，2014年7月初三星也做了同样的决定——宣布年底停产，等离子电视领域的两个最重要玩家，正式掐断了等离子电视的生命线。 等离子电视处在消失边缘，但…… 在京东的“平板电视”类目下，等离子电视共有 8 款，LCD液晶电视（含LED背光）共有 504 款。等离子电视处在消失的边缘。但是在美国极具影响力的《消费者报