氧化物专题

晶圆清洗与氧化物蚀刻的特性研究

引言 本文研究了硅的氧化物和氮化物的气相氟化氢蚀刻作用,新的氧化物选择性模式,概述了通过将无水高频与控制量的水蒸汽混合而产生高频蒸汽蚀刻剂的实现方法,描述了一种通过将氮气通过高频水溶液而引入高频蒸汽的系统。 实验 图1显示了本工作中使用的反应器的示意图;该反应器由一个惰性碳化硅反应室和两个装有适当溶液的加热汽化器组成,通过使受控量的氮气载气通过汽化器来输送蒸汽,该室没有被加热,并且处理压力保

双层钛矿复合氧化物Sr2BBO6/钙钛矿氧化物-卤化物固溶体/鲺钛矿(LaTb)SrMnO掺杂钙钛矿型锰氧化物

双层钛矿复合氧化物Sr2BBO6/钙钛矿氧化物-卤化物固溶体/鲺钛矿(LaTb)SrMnO掺杂钙钛矿型锰氧化物 钙钛矿是一种具有三元结构,其在超导体,太阳能电池和催化领域等诸多领域的研究依然是当下的热门课题。其中ABO3型钙钛矿氧化物可以催化很多重要的反应,比如一氧化碳氧化,二氧化碳还原以及电催化裂解水,进而可以推动空气净化,可再生能源以及燃料电池等领域的发展。 同时,ABX3型钙钛矿卤化物在

半导体制造流程(二)氧化物生长和去除

硅的氧化物中最重要的就是二氧化硅(SiO2),因其能抵御大部分溶剂(但易溶于氢氟酸溶液),可作为极好的电绝缘体,应用于电容和MOS管介电层。 3.1、氧化物生长和沉淀 硅在氧化气氛中加热可以加速获得氧化物,如果使用干燥的纯氧,得到的氧化物薄膜就称为干氧化物,薄膜越厚,氧化速率越慢。可以通过加压提高生长速率。 湿氧化物的形成方式与干氧化物相似,除了氧气外还需要在氧化炉中加入蒸汽起到加速