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《炬丰科技-半导体工艺》单面晶圆减薄处理技术
书籍:《炬丰科技-半导体工艺》 文章:单面晶圆减薄处理技术 编号:JFKJ-21-229 作者:炬丰科技 摘要 缩小特征尺寸的另一种选择是增加集成电路封装的密度和功能。模具尺寸和模具厚度已经大大减少。推动薄模具需求的主要因素包括便携式通信和计算设备、存储卡、智能卡、以及CMOS图像传感器、混合、箔式柔性系统、led、MEMS、太阳能和电源设备。 关键词:化学减薄、蚀刻、应力
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