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epi 外延炉 简介
因半导体制造工艺复杂,各个环节需要的设备也不同,从流程工序分类来看,半导体设备主要可分为晶圆制造设备(前道工序)、封装测试设备(后道工序)等。 本文介绍影响着晶体管性能和可靠性的外延炉。 外延炉是一种用于生产半导体材料的设备,其工作原理是在高温高压环境下将半导体材料沉积在衬底上。 硅外延生长,是在具有一定晶向的硅单晶衬底上,生长一层具有和衬底相同晶向的电阻率且厚度不同的晶格结构完
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