1 范围 本文件描述了采用红外反射法测试碳化硅外延层厚度的方法。 本文件适用于 n 型掺杂浓度大于1×10¹⁸ cm⁻³ 的碳化硅衬底上同质掺杂浓度小于1×10¹⁵ cm⁻³ 的 同质碳化硅外延层厚度的测试，测试范围为3μm～200μm。 2 规范性引用文件 下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中，注日期的引用文 件，仅该日期对应的版本适用于本文件；不注日期